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Preparation of Co-Cr-Ta/Ti perpendicular magnetic recording disk using ECR-sputter-deposition

IEICE technical report. Magnetic recording Volume 99 Issue 572 Page 1-8
published_at 2000-01-20
Title
ECRスパッタ法によるCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスク作製 : マイクロ波電力による物性制御
Preparation of Co-Cr-Ta/Ti perpendicular magnetic recording disk using ECR-sputter-deposition
Abstract
電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマを利用したスパッタ成膜装置(ECRスパッタ装置)において、独自のパラメータであるマイクロ波電力に着目し、これを活用してCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスクの高性能化を試みた。プラズマ生成室に投入するマイクロ波電力を増加させると、生成されるプラズマ密度が増加し、成膜速度を高まること、成膜中に基板を照射するArイオンの量が増加することが明らかになった。Co-Cr-Ta膜の作製において、マイクロ波パワーを成膜初期には高パワーとし、途中からは低パワーに変更するという制御を行うことによって、グレインが微細で、磁気特性および記録特性に優れた垂直磁気ディスクをパワー一定とした従来よりも高速に作製できることを見出した。
Creators 池田 朋広
Creators Yamamoto Setsuo
Creators 平田 京
Creators Kurisu Hiroki
Creators 松浦 満
Source Identifiers [PISSN] 0913-5685 [NCID] AN10013050
Creator Keywords
電子サイクロトロン共鳴 ECRスパッタ法 Co-Cr-Ta 垂直磁気記録 磁気ディスク
Languages jpn
Resource Type journal article
Publishers 電子情報通信学会
Date Issued 2000-01-20
File Version Not Applicable (or Unknown)
Access Rights metadata only access
Relations
[isVersionOf] [NAID]110003225853
Schools 大学院理工学研究科(工学)