Kurisu Hiroki
Affiliate Master
Yamaguchi University
Recording characteristics of Co-γFe_2O_3/NiO thin film media fabricated by plasma oxidation
IEICE technical report. Magnetic recording Volume 99 Issue 112
Page 25-31
published_at 1999-06-10
Title
プラズマ酸化法で作製したCo含有酸化鉄薄膜メディアの記録特性
Recording characteristics of Co-γFe_2O_3/NiO thin film media fabricated by plasma oxidation
Creators
鶴田 活己
Creators
棚町 信次
Creators
松浦 満
Creators
土井 孝紀
Creators
田万里 耕作
Creator Keywords
Co-γFe_2O_3
磁気ディスク
高抗磁力
プラズマ酸化
記録特性
磁気転写
まず最初に、CoFeの合金ターゲットを用いて酸素雰囲気中での反応性スパッタ法によってCoO-Fe_3O_4薄膜を成膜し、次にこれを二種類の方法で酸化させることによってCo-γFe_2O_3に変態させて薄膜磁気ディスクを作製した。用いた酸化法の一つは、従来から提案している大気中で昇温させることによる熱酸化法であり、もう一つは筆者らが最近提案した方法で、電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマ生成法とHeによるペニング電離作用を利用して生成した酸素プラズマを照射するプラズマ酸化法である。プラズマ酸化法で作製した磁気メディアは、大気中熱酸化法で作製した場合と比較して、電磁変換特性、記録密度特性についてはほぼ同等の特性を示し、ノイズ特性についてはより良好な特性を示すことがわかった。また本メディアがもつ特長である高抗磁力特性を生かして、本メディアをマザーメディアとして使用することによって、1600 Oe程度の磁気メディアに磁気転写できることも確認した。
Languages
jpn
Resource Type
journal article
Publishers
電子情報通信学会
Date Issued
1999-06-10
File Version
Not Applicable (or Unknown)
Access Rights
metadata only access
Relations
[ISSN]0913-5685
[NCID]AN10013050
[isVersionOf]
[NAID]http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186459/
[isVersionOf]
[URI]http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
Schools
大学院理工学研究科（工学）