Kurisu Hiroki
Affiliate Master
Yamaguchi University
Low-temperature and high-speed fabrication of Co-γ Fe_2O_3/NiO thin film media using penning ionization
IEICE technical report. Magnetic recording Volume 98 Issue 103
Page 7-14
published_at 1998-06-11
Title
ペニング電離を利用したCo含有酸化鉄薄膜メディアの低温・高速作製法
Low-temperature and high-speed fabrication of Co-γ Fe_2O_3/NiO thin film media using penning ionization
Creators
山時 照章
Creators
松浦 満
Creators
中田 健一
Creators
柿原 康男
Creators
土井 孝紀
Creators
田万里 耕作
Creator Keywords
Co-γFe_2O_3
プラズマ酸化
電子サイクロトロン共鳴プラズマ
ペニング電離
薄膜媒体
低温作製
Co-γFe_2O_3/NiO薄膜磁気メディアの作製プロセスの中で、CoO-Fe_3O_4薄膜を酸化処理する工程を、プラズマ中の酸素イオンを照射することで行なうことを試みた。その結果、(1)電子サイクロトロン共鳴(ECR)マイクロ波によって生成した酸素イオンの利用、(2)準励起状態にあるHe原子によって酸素分子のイオン化を促進するペニング電離効果の利用、(3)サンプルのチャージアップ対策、が有効であることがわかった。本手法では、大気中昇温による従来の酸化処理で要していた処理時間を1/500～1/1000にあたる10秒程度に短縮でき、プロセス温度を約1/2の150℃に下げることができた。
Languages
jpn
Resource Type
journal article
Publishers
電子情報通信学会
Date Issued
1998-06-11
File Version
Not Applicable (or Unknown)
Access Rights
metadata only access
Relations
[NCID]AN10013050
[isVersionOf]
[NAID]http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186376/
[isVersionOf]
[URI]http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
Schools
大学院理工学研究科（工学）