Yamamoto Setsuo
Affiliate Master
Yamaguchi University
Preparation of Co-Cr magnetic thin films using magnetron sputtering assited by inductively coupled rf plasma
IEICE technical report. Magnetic recording Volume 97 Issue 92
Page 41-46
published_at 1997-06-13
Title
誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
Preparation of Co-Cr magnetic thin films using magnetron sputtering assited by inductively coupled rf plasma
Abstract
誘導結合型プラズマ(ICP)を利用したマグネトロンスパッタ装置を試作し、Co-Cr垂直磁気異方性膜の作製を行った。誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ装置では、高周波によるプラズマ生成と、ターゲットに印可した直流によるスパッタ成膜とが機能分離できているために、通常のマグネトロンスパッタ法ではプラズマの維持が不可能な低いターゲット電圧領域においてもCo-Cr薄膜の作成が可能なことが明らかになった。ICPを用いることで、通常のマグネトロンスパッタ法のみの場合よりも、高い成膜速度が実現できた。ICP電力を増すと、作製したCo-Cr膜の垂直磁気異方性は減少する傾向がみられた。大きな垂直磁気異方性をもつCo-Cr膜を高速に作製するには、ICPを用いることに加えて、正の基板バイアス電圧の印可を併用することが効果的であるとの見通しを得た。
Source Identifiers
[NCID] AN10013050
Creator Keywords
誘導結合型プラズマ
スパッタ成膜
記録媒体
Co-Cr
マグネトロン
Languages
jpn
Resource Type
journal article
Publishers
電子情報通信学会
Date Issued
1997-06-13
File Version
Not Applicable (or Unknown)
Access Rights
metadata only access
Relations
[isVersionOf]
[NAID]110003186093
Schools
大学院理工学研究科（工学）