Preparation of Co-Cr-Ta/Ti perpendicular magnetic recording disk using ECR-sputter-deposition

IEICE technical report. Magnetic recording Volume 99 Issue 572 Page 1-8

published_at 2000-01-20

Title

ECRスパッタ法によるCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスク作製 : マイクロ波電力による物性制御

Abstract

電子サイクロトロン共鳴マイクロ波プラズマを利用したスパッタ成膜装置(ECRスパッタ装置)において、独自のパラメータであるマイクロ波電力に着目し、これを活用してCo-Cr-Ta/Ti垂直磁気ディスクの高性能化を試みた。プラズマ生成室に投入するマイクロ波電力を増加させると、生成されるプラズマ密度が増加し、成膜速度を高まること、成膜中に基板を照射するArイオンの量が増加することが明らかになった。Co-Cr-Ta膜の作製において、マイクロ波パワーを成膜初期には高パワーとし、途中からは低パワーに変更するという制御を行うことによって、グレインが微細で、磁気特性および記録特性に優れた垂直磁気ディスクをパワー一定とした従来よりも高速に作製できることを見出した。

Creators 池田朋広

Creators Yamamoto Setsuo

Creators 平田京

Creators Kurisu Hiroki

Creators 松浦満

Source Identifiers [PISSN] 0913-5685 [NCID] AN10013050

Creator Keywords

電子サイクロトロン共鳴 ECRスパッタ法 Co-Cr-Ta 垂直磁気記録磁気ディスク

Languages jpn

Resource Type journal article

Publishers 電子情報通信学会

Date Issued 2000-01-20

File Version Not Applicable (or Unknown)

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Relations

[isVersionOf] [NAID]110003225853

Schools 大学院理工学研究科（工学）