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電子線リソグラフィーにより導入する次世代超伝導材料の磁束ピンニングセンターの研究

山口大学ベンチャービジネスラボラトリー年報 Volume 3 Page 38-39
published_at 1999
D530003000012.pdf
[fulltext] 856 KB
Title
電子線リソグラフィーにより導入する次世代超伝導材料の磁束ピンニングセンターの研究
Creators 多田 直文
Source Identifiers
Languages jpn
Resource Type research report
Publishers 山口大学ベンチャービジネスラボラトリー
Date Issued 1999
File Version Version of Record
Access Rights open access
Schools 工学部