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高誘電体薄膜に関する研究 : 高集積化MOSFETゲート絶縁膜への応用

山口大学ベンチャービジネスラボラトリー年報 Volume 7 Page 34-35
published_at 2003
Title
高誘電体薄膜に関する研究 : 高集積化MOSFETゲート絶縁膜への応用
Creators 松尾 直人
Source Identifiers
Languages jpn
Resource Type research report
Publishers 山口大学ベンチャービジネスラボラトリー
Date Issued 2003
File Version Not Applicable (or Unknown)
Access Rights metadata only access
Schools 工学部