高誘電体薄膜に関する研究 : 高集積化MOSFETゲート絶縁膜への応用
山口大学ベンチャービジネスラボラトリー年報 Volume 7
Page 34-35
published_at 2003
Title
高誘電体薄膜に関する研究 : 高集積化MOSFETゲート絶縁膜への応用
Creators
松尾 直人
Source Identifiers
Languages
jpn
Resource Type
research report
Publishers
山口大学ベンチャービジネスラボラトリー
Date Issued
2003
File Version
Not Applicable (or Unknown)
Access Rights
metadata only access
Schools
工学部