Japanese | English

トップページへ戻る

掲載誌名 別一覧


Characterization of CuCl nanocrystals in SiO_2 matrix fabricated by inductively coupled plasma-assisted sputtering deposition
作成者 : Kurisu, Hiroki / Nagoya, Kazutaka / Yamada, Naoko / Yamamoto, Setsuo / Matsuura, Mitsuru 掲載誌名 : Journal of vacuum science & technology. Second series. B, Microelectronics and nanometer structures, processing, measurement and phenomena 巻 : 21 号 : 5 開始ページ : 2169 終了ページ : 2173 発行日 : 2003-09 リポジトリID : 2009010247
アクセス件数 ： 903 件 ダウンロード件数 ： 0 件

[1]