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Characterization of CuCl nanocrystals in SiO_2 matrix fabricated by inductively coupled plasma-assisted sputtering deposition
作成者 : Kurisu, Hiroki / Nagoya, Kazutaka / Yamada, Naoko / Yamamoto, Setsuo / Matsuura, Mitsuru 掲載誌名 : Journal of vacuum science & technology. Second series. B, Microelectronics and nanometer structures, processing, measurement and phenomena 巻 : 21 号 : 5 開始ページ : 2169 終了ページ : 2173 発行日 : 2003-09 リポジトリID : 2009010247
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