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熱CVD法を用いた水平管型反応器内のTiN薄膜生成過程における熱物質移動解析
作成者 : 羽鳥, 祐耶 / 山本, 浩輝 / 田之上, 健一郎 / 西村, 龍夫 掲載誌名 : 化学工学論文集 巻 : 40 号 : 5 開始ページ : 425 終了ページ : 431 発行日 : 2014-09-20 リポジトリID : 2014010724
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