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Characteristics of Recrystallized poly-Si Film Prepared by ELA of a-Si Deposited on SiO2 / SiN / Glass Using PE-CVD Method
作成者 : Kawamoto, Naoya / Abe, Hisashi / Matsuo, Naoto / Taguchi, Ryouhei / Nouda, Tomoyuki / Hamada, Hiroki 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 52 号 : 1 開始ページ : 1 終了ページ : 4 発行日 : 2001-10 リポジトリID : A030052000101
アクセス件数 : 646 件 ダウンロード件数 : 676 件
エキシマ・レーザ・アニール法により形成されたpoly-Si 薄膜結晶成長の遷移領域に関する検討
作成者 : 河本, 直哉 / 阿部, 寿 / 田口, 亮平 / 松尾, 直人 / 納田, 朋幸 / 浜田, 弘喜 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 51 号 : 2 開始ページ : 101 終了ページ : 104 発行日 : 2001-03 リポジトリID : A030051000202
アクセス件数 : 627 件 ダウンロード件数 : 400 件

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