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エキシマレーザ・アニールで作製した多結晶シリコン膜のディスク状結晶粒 : a-Si膜中の水素の影響
作成者 : 部家, 彰 / 河本, 直哉 / 松尾, 直人 掲載誌名 : 日本金屬學會誌 巻 : 76 号 : 2 開始ページ : 134 終了ページ : 138 発行日 : 2012 リポジトリID : 2011010347
アクセス件数 : 1022 件 ダウンロード件数 : 0 件
エキシマ・レーザー・アニール法による高品質多結晶シリコン薄膜作製への新たなるアプローチ
作成者 : 河本, 直哉 掲載誌名 : 山口大学ベンチャービジネスラボラトリー年報 巻 : 7 号 : 開始ページ : 51 終了ページ : 51 発行日 : 2003 リポジトリID : D530007000022
アクセス件数 : 678 件 ダウンロード件数 : 0 件
ELA により形成された poly-Si 結晶成長様式 : グレイン形状と水素の関係
作成者 : 河本, 直哉 / 松尾, 直人 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 53 号 : 1 開始ページ : 15 終了ページ : 21 発行日 : 2002-10 リポジトリID : A030053000103
アクセス件数 : 741 件 ダウンロード件数 : 642 件
Characteristics of Recrystallized poly-Si Film Prepared by ELA of a-Si Deposited on SiO2 / SiN / Glass Using PE-CVD Method
作成者 : Kawamoto, Naoya / Abe, Hisashi / Matsuo, Naoto / Taguchi, Ryouhei / Nouda, Tomoyuki / Hamada, Hiroki 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 52 号 : 1 開始ページ : 1 終了ページ : 4 発行日 : 2001-10 リポジトリID : A030052000101
アクセス件数 : 660 件 ダウンロード件数 : 686 件
エキシマ・レーザ・アニール法により形成されたpoly-Si 薄膜結晶成長の遷移領域に関する検討
作成者 : 河本, 直哉 / 阿部, 寿 / 田口, 亮平 / 松尾, 直人 / 納田, 朋幸 / 浜田, 弘喜 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 51 号 : 2 開始ページ : 101 終了ページ : 104 発行日 : 2001-03 リポジトリID : A030051000202
アクセス件数 : 640 件 ダウンロード件数 : 409 件
Si表面への有機炭素原子吸着とネーティブオキサイド成長の関係
作成者 : 河本, 直哉 / 藍原, 大介 / 松尾, 直人 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 50 号 : 2 開始ページ : 129 終了ページ : 136 発行日 : 2000-03 リポジトリID : A030050000206
アクセス件数 : 479 件 ダウンロード件数 : 470 件

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