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Characteristics of Recrystallized poly-Si Film Prepared by ELA of a-Si Deposited on SiO2 / SiN / Glass Using PE-CVD Method
作成者 : Kawamoto, Naoya / Abe, Hisashi / Matsuo, Naoto / Taguchi, Ryouhei / Nouda, Tomoyuki / Hamada, Hiroki 掲載誌名 : 山口大学工学部研究報告 巻 : 52 号 : 1 開始ページ : 1 終了ページ : 4 発行日 : 2001-10 リポジトリID : A030052000101
アクセス件数 : 602 件 ダウンロード件数 : 632 件

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