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Production of highly uniform electron cyclotron resonance plasmas by distribution control of the microwave electric field
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作成者 : Furuse, Muneo / Watanabe, Seiichi / Tamura, Hitoshi / Fukumasa, Osamu
掲載誌名 : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
巻 : 17
号 : 6
開始ページ : 3225
終了ページ : 3229
発行日 : 1999-11
リポジトリID : 2007010009
アクセス件数 ： 616 件 ダウンロード件数 ： 589 件
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Measurement of a three-dimensional distribution of microwave electric field in electron cyclotron resonance plasmas
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作成者 : Furuse, Muneo / Tamura, Hitoshi / Watanabe, Seiichi / Fukumasa, Osamu
掲載誌名 : Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes
巻 : 36
号 : 7B
開始ページ : 4617
終了ページ : 4619
発行日 : 1997-07
リポジトリID : 2008010188
アクセス件数 ： 465 件 ダウンロード件数 ： 0 件
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