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Production of highly uniform electron cyclotron resonance plasmas by distribution control of the microwave electric field
作成者 : Furuse, Muneo / Watanabe, Seiichi / Tamura, Hitoshi / Fukumasa, Osamu 掲載誌名 : Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 巻 : 17 号 : 6 開始ページ : 3225 終了ページ : 3229 発行日 : 1999-11 リポジトリID : 2007010009
アクセス件数 : 616 件 ダウンロード件数 : 589 件
Measurement of a three-dimensional distribution of microwave electric field in electron cyclotron resonance plasmas
作成者 : Furuse, Muneo / Tamura, Hitoshi / Watanabe, Seiichi / Fukumasa, Osamu 掲載誌名 : Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes 巻 : 36 号 : 7B 開始ページ : 4617 終了ページ : 4619 発行日 : 1997-07 リポジトリID : 2008010188
アクセス件数 : 465 件 ダウンロード件数 : 0 件

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