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Electrochemical properties of N-doped hydrogenated amorphous carbon films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition methods
作成者 : Tanaka, Yoriko / Furuta, Masahiro / Kuriyama, Koichi / Kuwabara, Ryosuke / Katsuki, Yukiko / Kondo, Takeshi / Fujishima、Akira / Honda, Kensuke 掲載誌名 : Electrochimica acta 巻 : 56 号 : 3 開始ページ : 1172 終了ページ : 1181 発行日 : 2011-01-01 リポジトリID : 2011010303
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