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フルテキストURL2007020174.pdf ( 128.8KB ) 公開日 2010-04-16
タイトルEfficient negative ion production in rf plasmas using a mesh grid bias method
作成者Okada, Junichi
Nakao, Yuichi
Tauchi, Yasushi
Fukumasa, Osamu
作成者ヨミオカダ, ジュンイチ
ナカオ, ユウイチ
タウチ, ヤスシ
フクマサ, オサム
作成者別表記福政, 修
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)Using a grid bias method for plasma parameter control, volume production of hydrogen negative ions H^- is studied in pure hydrogen rf plasmas. Relationship between the extracted H^? ion currents and plasma parameters is discussed. It is confirmed that both high and low electron temperature T_e plasmas are produced in the separated regions when the grid is negatively biased. In addition, with changing grid potential V_g, values of n_e increase while T_e decrease in their values. The negative ion production depends strongly on the grid potential and related plasma conditions.
本文言語eng
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者American Institute of Physics
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0034-6748
NCIDAA00817730
掲載誌名Review of Scientific Instruments
79
2
開始ページ02A502
発行日2008-01
DOIinfo:doi/10.1063/1.2805372
関連情報URL(IsPartOf)http://rsi.aip.org/rsi/
権利関係c2008 American Institute of Physics
著者版/出版社版出版社版
備考[ページ]の”02A502”は論文番号
リポジトリID2007020174
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2007020174