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タイトルECRスパッタ法を用いたCo-Cr垂直磁気異方性膜の作製 : 磁界によるプラズマ制御の効果
タイトルヨミECR スパッタホウ オ モチイタ Co-Cr スイチョク ジキ イホウセイマク ノ サクセイ ジカイ ニ ヨル プラズマ セイギョ ノ コウカ
タイトル別表記Preparation of Co-Cr films using electron-cyclotron resonance microwave plasma sputtering: Effects of plasma control using a magnetic field
作成者中村, 哲也
山本, 節夫
佐藤, 王高
栗巣, 普揮
松浦, 満
前田, 安
廣野, 滋
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
マエダ, ヤスシ
ヒロノ, シゲル
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)Co-Cr perpendicular magnetic anisotropy films were deposited by sputtering using electron-cyclotron resonance microwave plasma. The effects of ion acceleration voltage for bombardment of the substrate during film deposition on the magnetic microstructure and magnetic properties of the Co-Cr films were investigated. The ion acceleration voltage was controlled by magnetic field distribution in a deposition chamber. Co-Cr films with a fine magnetic structure in which the compositional separation into a Cr-enriched region and a Co-enriched region was enhanced within grains were achieved under a cusp magnetic field in which the ion acceleration voltage was about 10 V.
本文言語jpn
著者キーワードECR
sputtering
Co-Cr
perpendicular recording
magnetic field
compopsitional separation
magnetic microstructure
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
22
2
開始ページ69
終了ページ74
発行日1998
DOIinfo:doi/10.3379/jmsjmag.22.69
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010357
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010357