| フルテキストURL | フルテキストリンクなし |
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| タイトル | 誘導結合型プラズマを用いたスパッタ法で作成したCo-Cr垂直磁気ディスク |
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| タイトルヨミ | ユウドウ ケツゴウガタ プラズマ オ モチイタ スパッタホウ デ サクセイ シタ Co-Cr スイチョク ジキ ディスク
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| タイトル別表記 | Co-Cr perpendicular magnetic recording disks prepared by sputtering using ICP
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| 作成者 | 池田, 朋広
山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
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| 作成者ヨミ | イケダ, トモヒロ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
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| 作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
kurisu, Hiroki
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| 作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科（工学）
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| 内容記述（抄録等） | 誘導結合型プラズマ(ICP)生成法とマグネトロンスパッタ法を組み合わせたスパッタ装置を用いて、Co-Cr垂直磁気ディスクを作製した。このスパッタ装置において、ICPへの投入電力を変化させた場合の、プラズマ状態、作製したCo-Cr磁気ディスクの磁気特性・表面状態・記録特性などについて調べた。ICPへの投入電力と基板バイアス電圧によって、プラズマ中のイオンの量と基板を照射するイオンの加速電圧を、通常のマグネトロンスパッタ装置よりも広範囲に変化できることが明らかになった。また、ICP投入電力を増すにつれてスパッタ時のプラズマ密度が増すために成膜速度が増加し、ギャップ長が0.2μmのMIGヘッドを用いて接触記録を行なった場合に、高い再生電圧と180kFRPIを越えるD_<50>が得られた。
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| 本文言語 | jpn
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| 著者キーワード | 誘導結合型プラズマ
スパッタ成膜法
ICP
Co-Cr膜
垂直磁気記録
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| 資料タイプ | text |
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| 出版者 | 電子情報通信学会
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| 出版者ヨミ | デンシ ジョウホウ ツウシン ガッカイ
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| NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
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| 査読の有無 | 査読あり |
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| NCID | AN10013050
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| 掲載誌名 | 電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録 |
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| 掲載誌名別表記 | IEICE technical report. Magnetic recording |
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| 巻 | 98 |
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| 号 | 182 |
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| 開始ページ | 15 |
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| 終了ページ | 21 |
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| 発行日 | 1998-07-17 |
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| 関連情報URL(HasVersion) | http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186388/
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| 関連情報URL(IsPartOf) | http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
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| 著者版/出版社版 | その他 |
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| リポジトリID | 2008010338 |
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| 地域区分 | 山口大学
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| URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010338 |
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