| フルテキストURL | フルテキストリンクなし |
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| タイトル | ECRスパッタ法により作製したCo-Cr垂直磁気異方性膜の磁気特性 |
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| タイトルヨミ | ECR スパッタホウ ニヨリ サクセイ シタ Co-Cr スイチョク ジキ イホウセイマク ノ ジキ トクセイ
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| タイトル別表記 | Magnetic properties of Co-Cr films prepared by sputtering using electron cyclotron resonance microwave plasma
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| 作成者 | 佐藤, 王高
山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
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| 作成者ヨミ | サトウ, キミタカ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
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| 作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
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| 作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科（工学）
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| 内容記述（抄録等） | Co-Cr single-layer perpendicular anisotropy films were prepared on polyimide films by sputtering using electron cyclotron resonance (ECR) microwave plasma. The dependence of the crystallographic and magnetic properties of the Co-Cr films on the Ar gas pressure, P_<Ar>, and the target-to-substrate distance, D_<T-S>, was investigated. An 0.09,μm thick Co-Cr film with excellent c-axis orientation?namely, Δθ_<50> of 3.35°?, a high perpendicular magnetic anisotropy field of 4.5 kOe, and a high perpendicular coercivity H_<c⊥> of 1530 Oe was achieved at a relatively high P_<Ar> of 8×10^<-2> Pa and a large D_<T-S> of 230 mm. It may be surmised that ion bombardment with moderate energy in the P_<Ar> and D^<T-S> conditions described above is suitable for the deposition of Co-Cr perpendicular anisotropy films.
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| 本文言語 | jpn
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| 著者キーワード | Co-Cr
perpendicular magnetic recording
recording media
ECR sputtering
ion energy
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| 資料タイプ | text |
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| 出版者 | 日本応用磁気学会
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| 出版者ヨミ | ニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
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| NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
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| 査読の有無 | 査読あり |
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| ISSN | 0285-0192
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| NCID | AN0031390X
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| 掲載誌名 | 日本応用磁気学会誌 |
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| 掲載誌名別表記 | Journal of Magnetics Society of Japan |
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| 巻 | 20 |
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| 号 | 2 |
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| 開始ページ | 57 |
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| 終了ページ | 60 |
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| 発行日 | 1996 |
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| DOI | info:doi/10.3379/jmsjmag.20.57 |
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| 関連情報URL(IsPartOf) | http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
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| 著者版/出版社版 | その他 |
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| リポジトリID | 2008010360 |
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| 地域区分 | 山口大学
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| URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010360 |
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