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タイトル反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製
タイトルヨミハンノウセイ ECR スパッタリングホウ ニヨル Ni-Zn フェライト ハクマク ノ テイオン サクセイ
タイトル別表記Low-temperature sputter-deposition of Ni-Zn ferrite thin films using electron-cyclotron-resonance microwave plasma
作成者山本, 節夫
和田, 宏文
栗巣, 普揮
松浦, 満
下里, 義博
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)A novel sputtering method using an electron-cyclotron-resonance (ECR) microwave plasma was used to perform reactive sputter-deposition of Ni-Zn ferrite thin films. Ni-Zn spinel ferrite thin films with preferential orientation of (400) and relatively low coercivity of 15 Oe were obtained at a high deposition rate of 14 nm/min. and at temperatures lower than 200℃. To achieve this high deposition rate, the configuration of the ECR sputtering apparatus and processing parameters such as the microwave input power, target voltage, and oxygen partial pressure were carefully optimized. Reactive ECR sputtering is one of the most suitable methods for preparation of ferrite thin films applicable to magnetic devices such as MMICs isolators and circulators.
本文言語jpn
著者キーワードNi-Zn ferrite thin films
reactive ECR sputtering
high-rate deposition
low temperature
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
27
4
開始ページ363
終了ページ366
発行日2003
DOIinfo:doi/10.3379/jmsjmag.27.363
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010351
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010351