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タイトルコーン型ターゲットを用いた反応性ECRスパッタ法によるNi-Znフェライト薄膜の高速作製
タイトルヨミコーンガタ ターゲット オ モチイタ ハンノウセイ ECR スパッタホウ ニヨル Ni-Zn フェライト ハクマク ノ コウソク サクセイ
タイトル別表記High-rate reactive-ECR-sputter-deposition of Ni-Zn ferrite thin films using conic sputtering target
作成者山本, 節夫
荻田, 知治
栗巣, 普揮
松浦, 満
下里, 義博
岡田, 繁信
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)In order to achieve high rate deposition of Ni-Zn ferrite thin-films in reactive sputtering, a conic target with a sputtering area of 750 cm^2 was equipped in an ECR (electron-cyclotron-resonance) sputtering apparatus. Highly oriented Ni-Zn ferrite thin-films with a saturation magnetization of 290 emu/cc, a low coercivity of 11 Oe, and a relatively small stress of 4 × 10^9 dynes/cm^2 could be prepared at a substrate temperature of 250℃ and a high deposition rate of 44 nm/min. It was found that saturation magnetization and coercivity of the Ni-Zn ferrite thin-films strongly depend on the reduced process parameter: oxygen partial pressure divided by deposition rate.
本文言語jpn
著者キーワードECR sputtering
Ni-Zn ferrite
ferrite thin-film
high deposition rate
low temperature sputtering
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
28
5
開始ページ703
終了ページ706
発行日2004
DOIinfo:doi/10.3379/jmsjmag.28.703
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010350
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010350