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タイトル熱CVD法を用いた水平管型反応器内のTiN薄膜生成過程における熱物質移動解析
タイトルヨミネツCVDホウ オ モチイタ スイヘイカンガタハンノウキナイ ノ TiN ハクマク セイセイ カテイ ニオケル ネツブッシツ イドウ カイセキ
タイトル別表記Heat and mass transfer analysis for coating process of TiN thin film in a tubular reactor by thermal CVD
作成者羽鳥, 祐耶
山本, 浩輝
田之上, 健一郎
西村, 龍夫
作成者ヨミハトリ, ユウヤ
ヤマモト, ヒロキ
タノウエ, ケンイチロウ
ニシムラ, タツオ
作成者別表記Hatori, Yuya
Yamamoto, Hiroki
Tanoue, Kenichiro
Nishimura, Tatsuo
作成者所属山口大学大学院理工学研究科
山口大学大学院理工学研究科(工学)
本文言語jpn
著者キーワード化学蒸着法
窒化チタン
表面反応
拡散律速
数値解析
Chemical vapor deposition
Diffusion-controlling
Numerical simulation
Surface reaction
Titanium nitride
資料タイプtext
出版者化学工学会
出版者ヨミカガク コウガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
ISSN0386-216X
NCIDAN00037234
掲載誌名化学工学論文集
掲載誌名別表記Kagaku kogaku ronbunshu
40
5
開始ページ425
終了ページ431
発行日2014-09-20
DOIinfo:doi/10.1252/kakoronbunshu.40.425
関連情報URL(IsPartOf)https://www.jstage.jst.go.jp/browse/kakoronbunshu/40/5/_contents/-char/ja
著者版/出版社版その他
リポジトリID2014010724
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2014010724