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タイトルThermal decomposition of tetrabromosilane and deposition of crystalline silicon
作成者Nakayama, Masaharu
Miyamoto, Seiji
Ogawa, Takuro
Osae, Shogo
Tomono, Kazuaki
Sumimoto, Michinori
Sakata, Yoshihisa
Komatsu, Ryuichi
作成者ヨミナカヤマ, マサハル
ミヤモト, セイジ
オガワ, タクロウ
オサエ, ショウゴ
トモノ, カズアキ
スミモト, ミチノリ
サカタ, ヨシヒサ
コマツ, リュウイチ
作成者別表記中山, 雅晴
隅本, 倫徳
酒多, 喜久
小松, 隆一
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
本文言語eng
著者キーワードSiBr_4
Thermochemical decomposition
Si deposition
Flow reactor
資料タイプtext
出版者Elsevier Science
NII資料タイプ学術雑誌論文
ISSN1369-8001
NCIDAA11350145
掲載誌名Materials Science in Semiconductor Processing
23
開始ページ93
終了ページ97
発行日2014-07
DOIinfo:doi/10.1016/j.mssp.2014.02.045
関連情報URL(IsPartOf)http://www.sciencedirect.com/science/journal/13698001
著者版/出版社版その他
リポジトリID2014010302
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2014010302