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タイトルElectrochemical properties of N-doped hydrogenated amorphous carbon films fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition methods
作成者Tanaka, Yoriko
Furuta, Masahiro
Kuriyama, Koichi
Kuwabara, Ryosuke
Katsuki, Yukiko
Kondo, Takeshi
Fujishima、Akira
Honda, Kensuke
作成者ヨミタナカ, ヨリコ
フルタ, マサヒロ
クリヤマ, コウイチ
クワバラ, リョウスケ
カツキ, ユキコ
コンドウ, タケシ
フジシマ, アキラ
ホンダ, ケンスケ
作成者別表記本多, 謙介
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(理学)
本文言語eng
著者キーワードNitrogen-doped hydrogenated amorphous
carbon
Plasma-enhanced chemical vapor
deposition
資料タイプtext
出版者Pergamon Press
Elsevier Science
NII資料タイプ学術雑誌論文
ISSN0013-4686
NCIDAA00633261
AA11525861
掲載誌名Electrochimica acta
56
3
開始ページ1172
終了ページ1181
発行日2011-01-01
DOIinfo:doi/10.1016/j.electacta.2010.11.006
関連情報URL(IsPartOf)http://www.sciencedirect.com/science/journal/00134686
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78650513397&partnerID=40&md5=40f3b5fa7072e86476688453c5c226b1
著者版/出版社版その他
リポジトリID2011010303
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2011010303