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タイトルECRスパッタ法によるCo-Cr垂直磁気異方性膜作成におけるイオン照射効果の検討
タイトルヨミECR スパッタホウ ニヨル Co-Cr スイチョク ジキ イホウセイマク ニオケル イオン ショウシャ コウカ ノ ケントウ
タイトル別表記Study of ion bonberdment effect for Co-Cr films prepared by sputtering using electron cyclotron resonance microwave plasma
作成者佐藤, 王高
山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
廣野, 滋
前田, 安
作成者ヨミサトウ, キミタカ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
ヒロノ, シゲル
マエダ, ヤスシ
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)ECRスパッタ法によりCo-Cr膜を作成したとき、その磁気特性と結晶学的特性は成膜中の基板を照射するイオン加速電圧に強く依存することか明らかとなった。このイオン加速電圧はArガス圧とターゲット-基板間距離により制御することができ、イオン加速電圧を20V以下に適正化した結果、50nmの厚さのCo-Cr膜で、優れた結晶配向性(5゜以下のΔθ_<50>)、高い垂直異方性磁界(4kOe以上のH_k)、高い垂直方向力(1400Oe以上のH_<c⊥>)が得ることができた。
本文言語jpn
著者キーワードCc-Cr
垂直磁気記録
記録媒体
ECRスパッタリソグ
イオン加速電圧
資料タイプtext
出版者電子情報通信学会
出版者ヨミデンシ ジョウホウ ツウシン ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
NCIDAN10013050
掲載誌名電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録
掲載誌名別表記IEICE technical report. Magnetic recording
96
166
開始ページ7
終了ページ13
発行日1996-07-19
関連情報URL(HasVersion)http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186056/
関連情報URL(IsPartOf)http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010341
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010341