| フルテキストURL | フルテキストリンクなし |
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| タイトル | 誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成 |
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| タイトルヨミ | ユウドウ ケツゴウガタ プラズマ シエンガタ マグネトロンスパッタ ホウ ニヨル Co-Cr ジセイ ハクマク ノ サクセイ
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| タイトル別表記 | Preparation of Co-Cr magnetic thin films using magnetron sputtering assited by inductively coupled rf plasma
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| 作成者 | 林, 利彦
山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
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| 作成者ヨミ | ハヤシ, トシヒコ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
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| 作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
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| 作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科（工学）
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| 内容記述（抄録等） | 誘導結合型プラズマ(ICP)を利用したマグネトロンスパッタ装置を試作し、Co-Cr垂直磁気異方性膜の作製を行った。誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ装置では、高周波によるプラズマ生成と、ターゲットに印可した直流によるスパッタ成膜とが機能分離できているために、通常のマグネトロンスパッタ法ではプラズマの維持が不可能な低いターゲット電圧領域においてもCo-Cr薄膜の作成が可能なことが明らかになった。ICPを用いることで、通常のマグネトロンスパッタ法のみの場合よりも、高い成膜速度が実現できた。ICP電力を増すと、作製したCo-Cr膜の垂直磁気異方性は減少する傾向がみられた。大きな垂直磁気異方性をもつCo-Cr膜を高速に作製するには、ICPを用いることに加えて、正の基板バイアス電圧の印可を併用することが効果的であるとの見通しを得た。
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| 本文言語 | jpn
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| 著者キーワード | 誘導結合型プラズマ
スパッタ成膜
記録媒体
Co-Cr
マグネトロン
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| 資料タイプ | text |
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| 出版者 | 電子情報通信学会
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| 出版者ヨミ | デンシ ジョウホウ ツウシン ガッカイ
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| NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
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| 査読の有無 | 査読あり |
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| NCID | AN10013050
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| 掲載誌名 | 電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録 |
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| 掲載誌名別表記 | IEICE technical report. Magnetic recording |
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| 巻 | 97 |
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| 号 | 92 |
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| 開始ページ | 41 |
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| 終了ページ | 46 |
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| 発行日 | 1997-06-13 |
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| 関連情報URL(HasVersion) | http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186093/
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| 関連情報URL(IsPartOf) | http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
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| 著者版/出版社版 | その他 |
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| リポジトリID | 2008010340 |
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| 地域区分 | 山口大学
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| URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010340 |
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