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タイトル誘導結合型プラズマ支援型マグネトロンスパッタ法によるCo-Cr磁性薄膜の作成
タイトルヨミユウドウ ケツゴウガタ プラズマ シエンガタ マグネトロンスパッタ ホウ ニヨル Co-Cr ジセイ ハクマク ノ サクセイ
タイトル別表記Preparation of Co-Cr magnetic thin films using magnetron sputtering assited by inductively coupled rf plasma
作成者林, 利彦
山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
作成者ヨミハヤシ, トシヒコ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)誘導結合型プラズマ(ICP)を利用したマグネトロンスパッタ装置を試作し、Co-Cr垂直磁気異方性膜の作製を行った。誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ装置では、高周波によるプラズマ生成と、ターゲットに印可した直流によるスパッタ成膜とが機能分離できているために、通常のマグネトロンスパッタ法ではプラズマの維持が不可能な低いターゲット電圧領域においてもCo-Cr薄膜の作成が可能なことが明らかになった。ICPを用いることで、通常のマグネトロンスパッタ法のみの場合よりも、高い成膜速度が実現できた。ICP電力を増すと、作製したCo-Cr膜の垂直磁気異方性は減少する傾向がみられた。大きな垂直磁気異方性をもつCo-Cr膜を高速に作製するには、ICPを用いることに加えて、正の基板バイアス電圧の印可を併用することが効果的であるとの見通しを得た。
本文言語jpn
著者キーワード誘導結合型プラズマ
スパッタ成膜
記録媒体
Co-Cr
マグネトロン
資料タイプtext
出版者電子情報通信学会
出版者ヨミデンシ ジョウホウ ツウシン ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
NCIDAN10013050
掲載誌名電子情報通信学会技術研究報告. MR, 磁気記録
掲載誌名別表記IEICE technical report. Magnetic recording
97
92
開始ページ41
終了ページ46
発行日1997-06-13
関連情報URL(HasVersion)http://ci.nii.ac.jp/naid/110003186093/
関連情報URL(IsPartOf)http://ci.nii.ac.jp/vol_issue/nels/AN10013050_jp.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010340
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010340