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フルテキストURL2009010227.pdf ( 2.2MB ) 公開日 2010-11-30
タイトルLow temperature sputter-deposition of Ni-Zn ferrite thin-films using electron-cyclotron-resonance microwave plasma
作成者Wada, H.
Yamamoto, S.
Kurisu, H.
Matsuura, M.
Shimosato, Y.
作成者ヨミワダ, ヒロフミ
ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
本文言語eng
著者キーワードNi-Zn ferrite thin films
reactive ECR sputtering
high-rate deposition
low temperature
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者Materials Resarch society of Japan
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN1382-3469
NCIDAA10850652
掲載誌名Transactions of the Materials Research Society of Japan
28
4
開始ページ1105
終了ページ1108
発行日2003
権利関係(C)The Materials Resarch society of Japan(日本MRS)
著者版/出版社版出版社版
リポジトリID2009010227
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010227