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フルテキストURL2009010323.pdf ( 1.0MB ) 公開日 2010-05-25
タイトル反応性スパッタ法による作製においてエピタキシャル成長したYIGフェライト薄膜
タイトルヨミハンノウセイ スパッタホウ ニヨル サクセイ ニオイテ エピタキシャル セイチョウシタ YIGフェライト ハクマク
タイトル別表記YIG ferrite thin-films epitaxially grown by reactive sputtering method
作成者山本, 節夫
国木, 弘文
栗巣, 普揮
松浦, 満
張, 平宇
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クニキ, ヒロフミ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kuniki, Hirofumi
Kurisu, Hiroki
Matsuura, Mitsuru
Jang, Pyungwoo
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
本文言語jpn
著者キーワードreactive sputtering
YIG ferrite
post-annealing
GGG(111) substrate
hetero-epitaxial growth
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者粉体粉末冶金協会
出版者ヨミフンタイ フンマツ ヤキン キョウカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0532-8799
NCIDAN00222724
掲載誌名粉体および粉末冶金
51
3
開始ページ190
終了ページ194
発行日2004
関連情報URL(IsPartOf)http://www.journalarchive.jst.go.jp/japanese/top_ja.php
著者版/出版社版出版社版
リポジトリID2009010323
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010323