フルテキストURL | 2009010323.pdf ( 1.0MB ) 公開日 2010-05-25
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タイトル | 反応性スパッタ法による作製においてエピタキシャル成長したYIGフェライト薄膜 |
タイトルヨミ | ハンノウセイ スパッタホウ ニヨル サクセイ ニオイテ エピタキシャル セイチョウシタ YIGフェライト ハクマク
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タイトル別表記 | YIG ferrite thin-films epitaxially grown by reactive sputtering method
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作成者 | 山本, 節夫
国木, 弘文
栗巣, 普揮
松浦, 満
張, 平宇
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作成者ヨミ | ヤマモト, セツオ
クニキ, ヒロフミ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
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作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kuniki, Hirofumi
Kurisu, Hiroki
Matsuura, Mitsuru
Jang, Pyungwoo
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作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科(工学)
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本文言語 | jpn
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著者キーワード | reactive sputtering
YIG ferrite
post-annealing
GGG(111) substrate
hetero-epitaxial growth
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資料タイプ | text |
ファイル形式 | application/pdf |
出版者 | 粉体粉末冶金協会
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出版者ヨミ | フンタイ フンマツ ヤキン キョウカイ
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NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
査読の有無 | 査読あり |
ISSN | 0532-8799
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NCID | AN00222724
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掲載誌名 | 粉体および粉末冶金 |
巻 | 51 |
号 | 3 |
開始ページ | 190 |
終了ページ | 194 |
発行日 | 2004 |
関連情報URL(IsPartOf) | http://www.journalarchive.jst.go.jp/japanese/top_ja.php
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著者版/出版社版 | 出版社版 |
リポジトリID | 2009010323 |
地域区分 | 山口大学
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URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010323 |