| フルテキストURL | 2009010323.pdf ( 1.0MB ) 公開日 2010-05-25
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| タイトル | 反応性スパッタ法による作製においてエピタキシャル成長したYIGフェライト薄膜 |
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| タイトルヨミ | ハンノウセイ スパッタホウ ニヨル サクセイ ニオイテ エピタキシャル セイチョウシタ YIGフェライト ハクマク
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| タイトル別表記 | YIG ferrite thin-films epitaxially grown by reactive sputtering method
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| 作成者 | 山本, 節夫
国木, 弘文
栗巣, 普揮
松浦, 満
張, 平宇
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| 作成者ヨミ | ヤマモト, セツオ
クニキ, ヒロフミ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
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| 作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kuniki, Hirofumi
Kurisu, Hiroki
Matsuura, Mitsuru
Jang, Pyungwoo
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| 作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科（工学）
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| 本文言語 | jpn
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| 著者キーワード | reactive sputtering
YIG ferrite
post-annealing
GGG(111) substrate
hetero-epitaxial growth
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| 資料タイプ | text |
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| ファイル形式 | application/pdf |
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| 出版者 | 粉体粉末冶金協会
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| 出版者ヨミ | フンタイ フンマツ ヤキン キョウカイ
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| NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
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| 査読の有無 | 査読あり |
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| ISSN | 0532-8799
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| NCID | AN00222724
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| 掲載誌名 | 粉体および粉末冶金 |
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| 巻 | 51 |
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| 号 | 3 |
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| 開始ページ | 190 |
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| 終了ページ | 194 |
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| 発行日 | 2004 |
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| 関連情報URL(IsPartOf) | http://www.journalarchive.jst.go.jp/japanese/top_ja.php
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| 著者版/出版社版 | 出版社版 |
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| リポジトリID | 2009010323 |
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| 地域区分 | 山口大学
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| URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010323 |
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