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フルテキストURL2009010253.pdf ( 2.1MB ) 公開日 2010-04-16
タイトルPreparation of Co-Cr films using inductively-coupled-plasma assisted magnetron sputtering
作成者Yamamoto, S.
Hayashi, T.
Kurisu, H.
Matsuura, M.
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記山本, 節夫
栗巣, 普揮
松浦, 満
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)The 7th joint MMM-intermag conference, San Francisco, California, January 6-9, 1998.
本文言語eng
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者Institute of Electrical and Electronics Engineers
NII資料タイプ会議発表論文
NCIDBA40435294
掲載誌名The 7th joint MMM-intermag conference
GT-02
発行日1998
情報源ISBN0780351185
権利関係c2010 IEEE., Personal use of this material is permitted. However, permission to reprint/republish this material for advertising or promotional purposes or for creating new collective works for resale or redistribution to servers or lists, or to reuse any
著者版/出版社版出版社版
リポジトリID2009010253
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010253