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フルテキストURL2009010218.pdf ( 1.0MB ) 公開日 2010-04-16
タイトルCo-Cr films prepared by sputtering using electron cyclotron resonance microwave plasma
作成者Yamamoto, S.
Sato, K.
Kurisu, H.
Matsuura, M.
作成者ヨミヤマモト, セツオ
サトウ, キミタカ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
作成者別表記山本, 節夫
栗巣, 普揮
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
本文言語eng
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者American Institute of Physics
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0021-8979
NCIDAA00693547
掲載誌名Journal of applied physics
79
8
開始ページ4896
終了ページ4898
発行日1996-04-15
DOIinfo:doi/10.1063/1.361925
関連情報URL(IsPartOf)http://jap.aip.org/
著者版/出版社版出版社版
リポジトリID2009010218
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2009010218