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フルテキストURL2008010015.pdf ( 1.0MB ) 公開日 2010-04-16
タイトルRelationship between control of reactive plasmas with magnetic filter and formation of thin films
作成者Fukumasa, Osamu
Tauchi, Yasushi
Sakiyama, Satoshi
作成者ヨミフクマサ, オサム
タウチ, ヤスシ
サキヤマ, サトシ
作成者別表記福政, 修
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)Plasma parameters (CH_4/H_2+Ar plasmas) are spatially well controlled using a movable magnetic filter. At any filter position, plasma parameters change dramatically across the magnetic filter. The plasma is divided into two parts, the source plasma region (high density plasmas with energetic electrons) and the diffused plasma region (low electron-temperature plasmas without energetic electrons). Carbon thin films are prepared well in the diffused plasma region. The effects of bias potential of the substrate and control of neutral radicals on formation of thin films are discussed briefly.
本文言語eng
著者キーワードplasma CVD
magnetic filter
electron energy distribution function
multi cusp plasma source
spatial control
reactive plasmas
資料タイプtext
ファイル形式application/pdf
出版者応用物理学会
出版者ヨミオウヨウ ブツリ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0021-4922
NCIDAA10457675
掲載誌名Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes
36
7B
開始ページ4593
終了ページ4596
発行日1997-07
DOIinfo:doi/10.1143/JJAP.36.4593
関連情報URL(IsPartOf)http://www.ipap.jp/jjap/index.htm
著者版/出版社版著者版
リポジトリID2008010015
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010015