| フルテキストURL | フルテキストリンクなし |
|---|
| タイトル | 酸素イオン照射によるCo含有酸化鉄薄膜メディアの作製 |
|---|
| タイトルヨミ | サンソ イオン ショウシャ ニヨル Co ガンユウ サンカテツ ハクマク メディア ノ サクセイ
|
|---|
| タイトル別表記 | Preparation of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film media by irradiation with oxygen ions
|
|---|
| 作成者 | 山本, 節夫
山時, 照章
栗巣, 普揮
松浦, 満
中田, 健一
柿原, 康男
土井, 孝紀
田万里, 耕作
|
|---|
| 作成者ヨミ | ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
ドイ, タカノリ
タマリ, コウサク
|
|---|
| 作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
|
|---|
| 作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科（工学）
|
|---|
| 内容記述（抄録等） | A new plasma oxidization method was introduced into the fabrication process of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film magnetic recording media in order to transform CoO-Fe_3O_4/NiO films into Co-γFe_2O_3/NiO films. It was found that remarkably effective oxidization was achieved by utilizing oxygen ions generated in an electron-cyclotron-resonance (ECR) microwave plasma, promoting oxygen generation through the Penning ionization effect using metastable He atoms, and neutralizing samples. In the conventional oxidization method, CoO-Fe_3O_4/NiO films were heated up to over 300℃, and kept for 1 to 2 hours in air. The new plasma oxidization method shortened the processing time to 10 seconds and lowered the process temperature to 150℃.
|
|---|
| 本文言語 | jpn
|
|---|
| 著者キーワード | Co-γFe_2O_3
NiO
oxidization processes
ECR microwave plasma
Penning ionization
plasma oxidization
|
|---|
| 資料タイプ | text |
|---|
| 出版者 | 日本応用磁気学会
|
|---|
| 出版者ヨミ | ニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
|
|---|
| NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
|---|
| 査読の有無 | 査読あり |
|---|
| ISSN | 0285-0192
|
|---|
| NCID | AN0031390X
|
|---|
| 掲載誌名 | 日本応用磁気学会誌 |
|---|
| 掲載誌名別表記 | Journal of Magnetics Society of Japan |
|---|
| 巻 | 23 |
|---|
| 号 | 4-2 |
|---|
| 開始ページ | 1021 |
|---|
| 終了ページ | 1024 |
|---|
| 発行日 | 1999 |
|---|
| DOI | info:doi/10.3379/jmsjmag.23.1021 |
|---|
| 関連情報URL(IsPartOf) | http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
|
|---|
| 著者版/出版社版 | その他 |
|---|
| リポジトリID | 2008010354 |
|---|
| 地域区分 | 山口大学
|
|---|
| URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010354 |
|---|