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タイトル酸素イオン照射によるCo含有酸化鉄薄膜メディアの作製
タイトルヨミサンソ イオン ショウシャ ニヨル Co ガンユウ サンカテツ ハクマク メディア ノ サクセイ
タイトル別表記Preparation of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film media by irradiation with oxygen ions
作成者山本, 節夫
山時, 照章
栗巣, 普揮
松浦, 満
中田, 健一
柿原, 康男
土井, 孝紀
田万里, 耕作
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
ドイ, タカノリ
タマリ, コウサク
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)A new plasma oxidization method was introduced into the fabrication process of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film magnetic recording media in order to transform CoO-Fe_3O_4/NiO films into Co-γFe_2O_3/NiO films. It was found that remarkably effective oxidization was achieved by utilizing oxygen ions generated in an electron-cyclotron-resonance (ECR) microwave plasma, promoting oxygen generation through the Penning ionization effect using metastable He atoms, and neutralizing samples. In the conventional oxidization method, CoO-Fe_3O_4/NiO films were heated up to over 300℃, and kept for 1 to 2 hours in air. The new plasma oxidization method shortened the processing time to 10 seconds and lowered the process temperature to 150℃.
本文言語jpn
著者キーワードCo-γFe_2O_3
NiO
oxidization processes
ECR microwave plasma
Penning ionization
plasma oxidization
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
23
4-2
開始ページ1021
終了ページ1024
発行日1999
DOIinfo:doi/10.3379/jmsjmag.23.1021
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010354
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010354