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タイトル | 酸素イオン照射によるCo含有酸化鉄薄膜メディアの作製 |
タイトルヨミ | サンソ イオン ショウシャ ニヨル Co ガンユウ サンカテツ ハクマク メディア ノ サクセイ
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タイトル別表記 | Preparation of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film media by irradiation with oxygen ions
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作成者 | 山本, 節夫
山時, 照章
栗巣, 普揮
松浦, 満
中田, 健一
柿原, 康男
土井, 孝紀
田万里, 耕作
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作成者ヨミ | ヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
ドイ, タカノリ
タマリ, コウサク
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作成者別表記 | Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
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作成者所属 | 山口大学大学院理工学研究科(工学)
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内容記述(抄録等) | A new plasma oxidization method was introduced into the fabrication process of Co-γFe_2O_3/NiO thin-film magnetic recording media in order to transform CoO-Fe_3O_4/NiO films into Co-γFe_2O_3/NiO films. It was found that remarkably effective oxidization was achieved by utilizing oxygen ions generated in an electron-cyclotron-resonance (ECR) microwave plasma, promoting oxygen generation through the Penning ionization effect using metastable He atoms, and neutralizing samples. In the conventional oxidization method, CoO-Fe_3O_4/NiO films were heated up to over 300℃, and kept for 1 to 2 hours in air. The new plasma oxidization method shortened the processing time to 10 seconds and lowered the process temperature to 150℃.
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本文言語 | jpn
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著者キーワード | Co-γFe_2O_3
NiO
oxidization processes
ECR microwave plasma
Penning ionization
plasma oxidization
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資料タイプ | text |
出版者 | 日本応用磁気学会
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出版者ヨミ | ニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
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NII資料タイプ | 学術雑誌論文 |
査読の有無 | 査読あり |
ISSN | 0285-0192
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NCID | AN0031390X
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掲載誌名 | 日本応用磁気学会誌 |
掲載誌名別表記 | Journal of Magnetics Society of Japan |
巻 | 23 |
号 | 4-2 |
開始ページ | 1021 |
終了ページ | 1024 |
発行日 | 1999 |
DOI | info:doi/10.3379/jmsjmag.23.1021 |
関連情報URL(IsPartOf) | http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
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著者版/出版社版 | その他 |
リポジトリID | 2008010354 |
地域区分 | 山口大学
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URI | http://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010354 |