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タイトル低電圧 ECR スパッタ法による Ni-Zn フェライト薄膜の作製
タイトルヨミデイデンアツ ECR スパッタホウ ニヨル Ni-Zn フェライト ハクマク ノ サクセイ
タイトル別表記Fabrication of Ni-Zn ferrite thin film using the low-target-voltage reactive ECR sputtering method
作成者田中, 輝光
石田, 元
藤森, 宏高
下里, 義博
岡田, 繁信
松浦, 満
山本, 節夫
作成者ヨミタナカ, テルミツ
マツウラ, ミツル
フジモリ, ヒロタカ
ヤマモト, セツオ
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Fujimori, Hirotaka
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)Ni-Zn ferrite (100) thin films were deposited to investigate the effects of low-target-voltage sputtering using an electron cyclotron resonance (ECR) sputtering apparatus. Saturation magnetization equivalent to that for bulk Ni-Zn ferrite could be obtained at any target voltage. Full width at half-maximum of the rocking curves decreased with decreasing the target voltage in the range of ?400 to ?100 V. When the target voltage was ?50 V, Ni-Zn ferrite thin films showed relatively high coercivity and broad rocking curves. The reasons were considered to be the influence of impurity gas and unsuitable oxygen gas flow rate. The validity of low-target-voltage sputtering was confirmed for the reactive ECR sputtering method.
本文言語jpn
著者キーワードECR sputtering
Ni-Zn ferrite
thin film
low-target-voltage sputtering
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
29
4
開始ページ468
終了ページ471
発行日2005
DOIinfo:doi/10.3379/jmsjmag.29.468
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010348
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010348