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タイトルプラズマ酸化法で作製したCo-γFe_2O_3/NiO薄膜磁気ディスク
タイトルヨミプラズマ サンカホウ デ サクセイ シタ Co-γFe_2O_3/NiO ウスマク ジキ ディスク
タイトル別表記Co-γFe_2O_3/NiO thin film disks fabricated by plasma oxidization
作成者山本, 節夫
山時, 照章
栗巣, 普揮
松浦, 満
香嶋, 純
中田, 健一
柿原, 康男
土井, 孝紀
田万里, 耕作
作成者ヨミヤマモト, セツオ
クリス, ヒロキ
マツウラ, ミツル
ドイ, タカノリ
タマリ, コウサク
作成者別表記Yamamoto, Setsuo
Kurisu, Hiroki
作成者所属山口大学大学院理工学研究科(工学)
内容記述(抄録等)In the fabrication process of Co-γFe_2O_3/NiO thin film recording disks, new oxidization method using oxygen ions in a plasma was proposed to transform a CoO-Fe_3O_4 filem to a Co-γFe_2O_3 film. Remarkably effective oxidization was achieved by utilizaing oxygen ions produced in an electron-cyclotron-resonance microwave plasma, promotion of oxygen ion generation by Penning ionization effect using metastable He atoms, and neutralization for preventing static electricity of samples. This plasma oxidization method shortened the oxidization processing time to 10 seconds and lowered the process temperature to 150℃ for the 20nm thick CoO-Fe_3O_4 films. Almost same recording characteristics was obtained between the Co-γFe_2O_3/NiO disks prepared by the plasma oxidization method and a conventional heat oxidization method in air.
本文言語jpn
資料タイプtext
出版者日本応用磁気学会
出版者ヨミニホン オウヨウ ジキ ガッカイ
NII資料タイプ学術雑誌論文
査読の有無査読あり
ISSN0285-0192
NCIDAN0031390X
掲載誌名日本応用磁気学会誌
掲載誌名別表記Journal of Magnetics Society of Japan
22
S3(Supplement)
開始ページ21
終了ページ25
発行日1998
関連情報URL(IsPartOf)http://www.wdc-jp.com/msj/journal/index.html
著者版/出版社版その他
リポジトリID2008010347
地域区分山口大学
URIhttp://www.lib.yamaguchi-u.ac.jp/yunoca/handle/2008010347